Instrument de mesure d'image métallurgique à haute précision

Caractéristiques du produit :

Ce produit est équipé d'une lentille objective métallurgique 5X-100X, qui permet de réaliser une imagerie microscopique à fort grossissement, capturant clairement les détails des micro-pièces telles que les wafers semi-conducteurs et les échantillons métallographiques. La combinaison de sources lumineuses en champ clair, champ sombre et polarisée répond aux besoins d'imagerie pour différents types d'échantillons et peut collecter clairement les détails de surface des échantillons cristallins, transparents et réfléchissants. Le logiciel MetrologyImage V5.0 prend en charge la mesure microscopique professionnelle telle que la taille des grains, l'épaisseur du revêtement et le diamètre des micro-trous, et peut générer des rapports de détection professionnels pour la recherche scientifique et le contrôle de la qualité. La base anti-vibration réduit l'impact de l'environnement extérieur sur la précision de la mesure microscopique, assurant la stabilité de la détection à haute précision.

Spécifications du produit :

Les dimensions globales de cette machine de mesure de vision métallurgique à haute précision sont de 550*500*1000mm, avec un poids net d'environ 60kg. La course du plateau de travail est de 200mm pour l'axe X, 150mm pour l'axe Y, et la hauteur maximale mesurable est de 100mm. Il est équipé d'une caméra CCD de résolution 1920*1080, permettant la collecte d'images microscopiques claires. La spécification d'alimentation est AC100-240V 50/60Hz, s'adaptant aux environnements électriques des différentes régions. Le plateau de travail peut supporter une charge maximale de 3kg, répondant aux besoins de placement de la plupart des micro-échantillons et des petites pièces. L'équipement prend en charge la transmission de données USB3.0 et HDMI, permettant l'affichage en temps réel des images microscopiques et l'exportation rapide des données de détection.

Applications du produit :

Cette machine de mesure de vision métallurgique à haute précision est adaptée à la mesure microscopique des échantillons métallographiques, des wafers semi-conducteurs, des pièces métalliques micro précises, l'épaisseur de revêtement et d'autres micro-pièces. Elle est largement utilisée dans la fabrication semi-conductrice, la recherche scientifique sur les matériaux, la fabrication optique de précision et d'autres secteurs, fournissant des données de mesure fiables pour le contrôle de la qualité et la recherche scientifique. Elle peut être utilisée dans les laboratoires de matériaux des universités, les usines de fabrication semi-conductrice et les entreprises de traitement de matériel micro précis, aidant à améliorer la précision de la détection microscopique et fournissant un soutien de données pour l'optimisation des produits et la recherche scientifique.